Endüstride Yaygın Olarak Kullanılan Asit Çözeltileri İçinde AA5754 Yüzeyinin ve Korozyon Davranışının İncelenmesi

Çeşitli uygulama alanlarında elektrolit olarak kullanılabilecek borik asit (H3BO3), tartarik (TA), okzalik (H2C2O4), hidroklorik (HCl), hidroflorik (HF) ve tetrafloroborikasitin (HBF4) sulu çözeltileri içinde alüminyum 5754 alaşımının (AA5754) korozyon çalışmaları gerçekleştirilerek ortamdaki niteliğinin aliminyum oksit oluşumu üzerine etkisi birbiriyle karşılaştırılarak incelenmiştir. Asitlerde bekletilen AA5754 yüzeyi XRD, XPS, AFM profilometre yöntemleri ile karakterize edilmiştir. XRD sonuçları Al2O3 oluşumunu gösterirken XPS bu oluşumun doğrulanmasının yanında spektrumda B, O, C, Cl F piklerinin gözlenmesi nedeniyle asitlerin yüzeye adsorblandığına işaret etmiştir. görüntülerinden H3BO3, TA H2C2O4 ortamlarında elde edilen tabakalarının HCl, HF HBF4’dekilere göre daha düzgün topografyaya sergilediği belirlenmiştir. Tüm asitler karşılaştırıldığında H3BO3 ortamında en düşük pürüzlülük değerlerine (24.28 nm) sahip, homojen kalın (15.4 filmin oluştuğu belirlenirken HBF4 tam tersidir (sırasıyla 99.44 nm 0.64 nm). numunesinin davranışı OCP, Tafel EIS ölçümleri Buna HBF4, HF, H2C2O4, sıralamasıyla OCP değerleri pozitif potansiyellere kaymakta, ikor azalmakta Rct artmaktadır. numunesi diğerlerine çok farklı bir gözlenmiştir. Bunun nedeni HBF4’ün ortamda kısmi ayrışması sonucu üretilen sayesinde yüzeyde AlF6-3 kompleksinin çözünmenin fazla gerçekleşmesi olmalıdır. Tersine, H3BO3'te ortaya çıkan tabakası, korozyona karşı etkili sağlamıştır, çünkü zayıf asidik karakteri (pKa = 9.27) çekirdeklenme ardından pasivasyon hızlı gerçekleşmektedir.